铁酸铋薄膜光电性质及其铁电畴演变的研究(4)
1.1.6 本实验的研究意义
本实验采用脉冲激光溅射沉积法（PLD）来制备BiFeO3薄膜，并用XRD、AFM和PFM等仪器来表征薄膜的各项性能参数。PLD法制备铁电薄膜是目前一种较为精确的生长工艺，可以通过控制各项参数指标来制备出具有较好性能的均匀薄膜。BiFeO3薄膜材料是近年来铁电材料中研究的热点，其优异的性能使其已经或者即将被应用于许多领域。如果可以用PLD制备出高质量的BiFeO3薄膜，将会使BiFeO3这种性能良好的铁电体材料应用于更多领域。
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