在所有的正极材料中，含钠层状氧化物（NaxTMO2）引起了相当大的关注[9]。它们的结构可以简单地解释为MO2层的边缘共享MO6八面体，Na+占据层间空间。它们可以通过易量产的合成方法生产，并且表现出高的理论容量：根据TM组分，理论容量范围在230-250mAh∙g-1[38]。根据不同的氧堆叠排序，层状氧化物也可以表现出不同的结构，如P2（Na占据ABBA氧堆积之间的棱柱位置）或O3（Na占据ABCABC氧堆叠之间八面体位置）。其命名法由C.Delmas于20世纪80年代初建立[39]（如图1.2所示）。

Radin和VanderVen提出堆叠顺序稳定性的趋势通常遵循两个简单的规则[40]：化合物离子性越多，越偏O3结构，在高和低插层组成（x〜0或x〜1）时呈现较高共价性，优选O1结构。在中等插层组成时（x〜1/2），对于足够大以支持棱镜协调的插入剂，P3结构通常是优选的。

近年来，对于含钠锰基层状材料的热度十分高涨。NaxMnO2系统及其衍生物具有许多优良性能，有相当大的发展空间。此外，Mn本身是一种环保元素，成本相对较低，并且关于其不同氧化态数量的知识使得产品可以在不同电压范围使用（尽管最常用的是3+/4+）。含钠锰层状氧化物拥有出色的电化学性能，被提出作为第一种NIB样机的正极材料（经过适当的优化后）。