目次
1绪论1
1.1微成形简介1
1.2微胀形工艺及研究现状1
1.3电铸铜简介2
1.4研究的意义3
1.5主要研究内容3
2实验材料及方法5
2.1实验材料及参数的选择5
2.2实验方法6
3电铸铜箔各向异性··12
3.1电铸铜箔内应力的位置效应··12
3.2电铸铜箔微观组织的位置效应··14
3.3电铸铜箔拉伸性能的位置效应··15
3.4本章小结··19
4胀形参数对电铸铜箔胀形性能影响··21
4.1胀形参数摸索··21
4.2胀形参数对极限胀形高度的影响··23
4.3本章小结··28
结论30
致谢31
参考文献32
附录A科研成果·35
1 绪论随着制造领域不断向微型化发展,微型零件的需求日益增加,微成形技术备受关注[1]。微气压胀形技术是微成形技术的一种,少无回弹、成形精度高、可一次成形复杂零件,在微型零件的规模化生产中有显著的优势[2]。铜箔成形性能优良,在覆铜板(CCL)和挠性电路板(PCB)等电子领域有广泛应用,因此其微胀形成形研究具有重要的应用价值[3-4]。铜箔按制造工艺可分为压延铜箔和电解铜箔。压延铜箔由轧制而得,工艺成熟,但是制造成本高,极限厚度受设备限制,表面粗糙度大[5]。而电解铜箔通过电解方法制得,可以通过改变电解工艺中的温度、电流密度、电镀液成分等改善铜箔的性能[6-7]。同时电解铜箔工艺不断发展,已经成功通过脉冲电流制备出高质量的纳米晶铜[8]。从而,用脉冲电流制备铜箔,并进行微气压胀形工艺研究,对于发展微成形技术具有重要的理论意义和实用价值。