高阻抗铝氧化膜的研究+文献综述(4)
(2) 沸水封闭和NiF2冷封闭处理的氧化膜试样在氯化钠溶液中，其氧化膜多孔层电阻随浸泡时间延长而降低，多孔层电容和阻挡层电阻随时间延长而增大；但NiF2冷封闭处理后的氧化膜试样在较长浸泡时间内，多孔层电阻和电容相对较稳定，Rp值基本稳定在一个数量级上；(3)重铬酸钾封闭处理的氧化膜在氯化钠溶液的浸泡过程中，存在着与未封闭氧化膜类似的自封闭效应，即多孔层阻抗随浸泡时间增大[7]。
未经封闭的氧化膜表面有许多的孔洞，这是阳极氧化膜的多孔层，它极大的限制了氧化膜的耐蚀性等性能。经硝酸铈-高锰酸钾封闭工艺处理后的氧化膜表面有一层均匀的球状覆盖物，这和硝酸铈一双氧水封闭工艺所得钝化膜在外形上相似，但经硝酸铈．高锰酸钾封闭处理后所得的钝化膜比硝酸铈一双氧水封闭处理后所得的钝化膜要致密[8]。
1.3.5化学抛光的影响[9]
化学抛光时问合适与否直接影响到铝片的表面状态。根据目前的铝材化学抛光机理：酸性侵蚀过程一钝化过程一黏滞性扩散层的扩散过程，铝浸渍到热的浓酸中时，首先硝酸在材质表面上形成由几十个原子层厚度的钝化膜，这层钝化膜尤其遏制了凹陷处的酸性侵蚀，而在化学反应过程中，形成一层含有铝盐(主要是由磷酸盐、硝酸盐等多种化合物组成)的黏滞性扩散层覆盖在铝材表面上，铝离子从扩散层出来由扩散过程控制，且此黏滞层在凹陷处的厚度比凸出处的厚得多，凹陷处的铝受到黏滞性扩散层的保护，其溶解速度要比凸出处慢得多，导致表面产生宏观的平整光滑作用。前处理使用化学抛光对氧化膜的影响有如下结论：
(1)铝的表面粗糙度值随化学抛光时间的变化，先减小后增大。
(2)试样面积与抛光液体积比值使得表面粗糙度逐渐降低，当比值达到2cm:80mL后，表面粗糙度值保持不变。
(3)表面粗糙度值会随着抛光次数的增多而变大，新鲜抛光液的有效地使用次数为5次。
(4)二次阳极氧化会进一步降低表面粗糙度值[9]。
1.3.6氧化膜制作过程中用水的影响[10]
氧化膜制作过程中的用水也是十分重要，在用硫酸阳极氧化的电解液中某些杂质的存在对氧化膜质量影响很大。尤其是氯离子和硝酸根离子的影响更为严重，它们能在阳极(铝件)优先放电，破坏了氧化膜的正常生长。如Cr含量过高时，会使铝件产生穿透性腐蚀，造成氧化膜形成大量的黑色斑点。因此，对阳极氧化液中使用的水质应有一定的了解，当Cr的质量浓度达到1 mg/L时应更换新液，槽液中Cr含量应不大于0.5 mg/L。所以铝件阳氧化电解液使用的水包括氧化前后的清洗用水，都必须是蒸馏水或去离子水。
1.3.7基体的影响[11]
氧化膜的显微硬度取决于基体组成,例如三面晶形的基体AlSi10Cu3最硬，无论在何种阳极氧化环境下，其结果在氧化膜中有着最低的平均显微硬度，比AlSi10，Al基体低。
硅与铜相比对于氧化膜有更小的危害，它的诱导效果并非总会产生缺陷。铜对氧化膜最大的缺陷影响主要表现在当铜中含有的金属间化合物穿越了氧化膜与基体层将会留下裂缝。
1.3.8电流波形的影响[12]
对于一个确定的基体，表层固有属性的研究，换言之就是厚度，显微硬度，表面粗糙度以及形态，在不同的波形下并没有表现出明显的区别。在几乎所有的波形中，在损失表明粗糙度的前提下，斜降波形对于氧化膜的厚度与显微硬度有直线上升的收益。
1.4本课题的研究内容
本课题希望通过对铝氧化膜表面的修饰，获得更高阻抗的铝氧化膜，该氧化膜有望能作为功能性膜层用于电子、航空等领域。
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