②直接光化学气相沉积法则是利用激光来发射高能量的光子，光子束高能轰击反应气体，导致了气体的化学键产生了断裂，从而产生自由粒子就会在基底的表面反应生成薄膜[8]。杜凯英等[9]在一定的温度下的条件下，利用紫外光（微波激励Xe发射出）来轰击乙炔气体，在硅片作为的基底上成功的制备出各种性能均表现良好的类金刚石薄膜。

③等离子体增强化学气相沉积法制备DLC薄膜时采用的是化学气相沉积技术和辉光等离子放电技术，碳源气体分子会在高能电子的强烈轰击下发生离化，离化生成的活性碳等离子体会基底表面发生相互碰撞并反应，最后生成DLC薄膜[10]。Tonanon[11]成功地利用微波等离子体增强化学气相沉积技术在Al2O3-陶瓷基底上沉积得到致密的类金刚石薄膜，通过表征的方法分析后发现Al2O3-陶瓷基底的硬度在沉积薄膜后得到了显著地提高。来`自+优-尔^论:文,网www.chuibin.com +QQ752018766-

1。3。2 物理气相沉积法

物理气相沉积法（PVD）是指在真空的条件下，以石墨作为碳靶材料，通过一定的方法使石墨碳靶发生离子化，然后在基底表面沉积形成类金刚石薄膜。物理气相沉积法主要分为以下两种技术。

第一种是热蒸发沉积技术，该方法是在真空条件下将碳材料进行加热蒸发，蒸发出来的粒子会直接在基体的表面沉积形成DLC薄膜。第二种是溅射沉积技术，是利用高能粒子轰击石墨靶材，碳原子溅射到基底上生成薄膜。白秀琴[12]等利用真空蒸发碳离子束辅助镀膜的方法制备出了表面光滑，团簇颗粒粒径小，摩擦学性能良好的类金刚石薄膜。