TiO2－金属同轴纳米阵列的制备(5)
恒定的直流电多用于复合共沉积纳米晶体，在电沉积金属的过程中加入纳米微粒，使得金属与纳米微粒共同沉积。在适当工艺条件下，加入纳米微粒，可以控制沉积的基体金属的晶粒尺寸在纳米范围内。在电流密度很小的情况下，依然可以获得纳米晶体。
喷射电沉积是一种局部高速电沉积技术。电解液从阳极喷嘴以一定流量和压力垂直喷射到阴极表面，这样可以在阴极表面冲击区和喷射流发生电沉积反应。电解液的冲击作用可以有效的改善电沉积的过程，减少扩散层的厚度，这样的镀层更紧密，晶粒更细化。电化学沉积可按照基片在沉积过程中所发挥的作用可分为阳极沉积和阴极沉积。
制备纳米晶的半导体或金属[62]一般使用阴极沉积，电沉积过程中，金属离子在阴极附近的溶液中放电形成属单质或更低价的金属离子，金属单质形成后会直接通过电结晶的形式沉积到阴极上，而溶液中的阴离子会与更低价的金属离子进行结合，形成沉淀继而在阴极沉积出来。能够在电沉积溶液形成沉淀无机化合物一般使用阳极沉积的方法，并且该化合物可以在溶液中与其他的阴离子形成络合离子。
与其他制备方法相比较，电沉积法主要具备以下几个优点[63]：第一拥有生产效率高，成本比较低等优点，而且对环境友好。第二通过灵活的工艺，不同光电性质、不同厚度的薄膜能在高边电化学参数的条件下被获得。第三可以在各种复杂衬底上生长材料。第四电沉积参数可以决定结晶组织，可以得到分布窄的晶粒尺寸，以及孔率极低且密度极高的纳米晶体材料。第五通过简单的过程就可以得到大量的纳米晶体材料，条件可以在常温常压下进行。第吹冰可以获得多种如纳米叠层膜、半导体、纯金属、以及其他的复合沉积层纳米晶体材料，他们的晶粒尺寸通常在1-100 nm，同时大规模的工业生产也同样适合。
1.3课题目的和意义
现在常用的TiO2基光催化剂大多数都是纳米粉末材料。这种材料对人的身体健康存在潜在的威胁。同时，人们也很难解决光催化剂回收和再利用的问题。然而，光催化剂的固定是决解上述问题的有效方法。使用TiO2纳米阵列作为光催化剂可以提高比表面积更高和增强光捕获能力。
由于二氧化钛纳米阵列的诸多优势，本文使用钛网为基底，通过阳极氧化法制备TiO2钛纳米管阵列。并探讨二氧化钛-银同轴纳米线阵列的构建方法和初步的概念型探讨。