磁场强度及微粒浓度对制备Cu-γ-Fe2O3@SiO2复合镀层的影响(8)
① 事先将0.01gγ-Fe2O3@SiO2微粒稀释到20mL蒸馏水中，放入超声波清洗机中超声分散1h。
②预镀光亮铜：电流密度2A/dm2，400mL方形镀槽中加入预先配制好的光亮镀铜溶液350mL，室温电镀10min；复合镀铜：电流密度2A/dm2，300mL方形镀槽中加入预先配制好的基础镀铜溶液250mL，室温电镀60s。
③复合镀铜过程：电磁铁紧贴着阴极的镀槽壁上，通过电磁铁的电流强度I=0.01A，分别取分散好的微粒溶液2mL、4mL、6mL、8mL，具体影响见后图4.5、图4.6、图4.7、图4.8。
3.6.2 磁场强度影响试验
固定γ-Fe2O3@SiO2微粒浓度，通过改变电磁铁的电流强度来改变它产生的磁场强度，从而得出磁场强度对复合镀层的影响情况。
①事先将0.03gγ-Fe2O3@SiO2微粒稀释到60mL蒸馏水中，放入超声波清洗机中超声分散1h。
②预镀光亮铜：电流密度2A/dm2，400mL方形镀槽中加入预先配制好的光亮镀铜溶液350mL，室温电镀10min；复合镀铜：电流密度2A/dm2，300mL方形镀槽中加入预先配制好的基础镀铜溶液250mL，室温电镀60s。
③复合镀铜过程：电磁铁紧贴着阴极的镀槽壁上，取分散好的粒子8mL，调节通过电磁铁的电流强度I分别为0.20A、0.15A、0.10A、0.05A、0.01A、0.005A，具体影响见后图4.9、图4.10、图4.11、图4.12。
4 实验结果与讨论
4.1 前处理结果与讨论
（1）细砂纸打磨：为了使铜基体与预镀层之间的结合力良好，故需要把基体打磨的尽量平整一些，如果选用较粗糙的砂纸，会使其表面更加不平整，所以选用磨料粒度为280-320#的细砂纸对铜片表面进行打磨是比较合适的。
（2）碱性化学除油工艺：铜片在加工、运输、存放过程中常常会有灰尘和油污附着在其表面，为了使铜片的预处理达到最佳的效果，本工艺使用了表3.3的碱性化学除油配方工艺，经过该配方除油后，将经除油后的制件在清水中浸渍后取出，表面形成了一层均匀的水膜，当表面的水流下后，表面仍然是完全湿润的，说明在该除油工艺达到了极佳的效果。其中碳酸钠对铜片没有明显的腐蚀作用，并且碳酸钠吸收到了空气中的二氧化碳，能部分转变成碳酸氢钠，对溶液的pH值有良好的缓冲作用。磷酸三钠具有碳酸钠的优点，除油和缓冲效果较好，除此之外还具有一定的乳化作用，产物的水洗性好。
（3）酸洗除锈工艺：铜片在空气中放置生成的氧化物多用稀硫酸除去，实验中用质量分数为4%-6%的稀硫酸除去氧化层是比较适宜的。
4.2 赫尔槽试验结果与讨论
由于固定体积的电镀液中硫酸铜和浓硫酸的用量已经确定了，就只剩下确定各种添加剂的用量了。结合以前电镀基础实验的实践，我已经了解到各种添加剂的用量都很少，即使用分析天平称量也不准确，很有可能用多，所以首先我就把各种添加剂稀释成溶液，分别为：0.5g/L的2-巯基苯并咪唑，0.6g/L的乙撑硫脲，1.8g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠，5g/L的聚乙二醇，3.75%的HCl。
经过多次的赫尔槽试验，我终于镀出了光亮区域，由公式3.1计算出光亮区域的电流密度，并加以试验，从而确定了光亮镀铜溶液的配方工艺，如表3.5。
4.3 预镀光亮铜试验结果
由于赫尔槽试验的成功，所以每一次的预镀结果都非常理想，表面很光亮，没有出现起皮、发花、皱纹等缺陷，预镀光亮铜很成功。
4.4 复合镀铜试验结果与讨论
4.4.1 γ-Fe2O3@SiO2微粒浓度影响试验结果与讨论
（1）1块永磁铁
由于使用了1块永磁铁，预想可能会产生环形磁场使γ-Fe2O3@SiO2微粒定向向阴极移动，改变γ-Fe2O3@SiO2微粒的用量，分别为2mL、4mL、6mL、8mL、10mL，其对应复合镀层的电子扫描显微镜图像如下图4.1中的a、b、c、d、e：