CTAB：十六烷基三甲基溴化铵；TEOS：正硅酸四乙酯；-ph：三甲氧基（3-苯氨基丙基）硅烷

图 1  MG@SiO2-ph复合材料合成路线示意图来;自]优Y尔E论L文W网www.chuibin.com +QQ752018766-

2 结果与讨论

2。1 材料红外表征分析

材料的红外表征如图2所示。通过四条红外吸收光谱吸收曲线的比较，在3431 cm-1和1634 cm-1出现的吸收峰为本身含有的羟基（在表征过程中样品表面可能存在水分），而且可以发现曲线B在1084 cm-1处有明显的吸收峰。频率范围在1110-1000 cm-1为Si-O-Si键的伸缩振动强吸收峰[9,17]，而曲线B的振动吸收峰刚好落在此频率范围之内，可以证明二氧化硅确实包覆在了MG上，而且在淋洗去除CTAB以及在接上苯基过程中并未破坏该结构，与B、C、D对比发现D在1000-900 cm-1未出现吸收峰，说明该材料与合成目标的材料相一致。