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范文
水热法Bi2Fe4O9半导体光催化的性能研究(2)
1.7 本课题主要内容 8
2 水热法制备Bi2Fe4O9及其表征 9
2.1 引言 9
2.2 水热合成Bi2Fe4O9 9
2.2.1 实验仪器及
化学
试剂 9
2.2.2 样品的制备过程 10
2.2.3 样品的表征 11
3 实验结果与讨论 13
3.1 NaOH浓度对成相的影响 13
3.2 温度对成相的影响 17
3.3 半导体Bi2Fe4O9性能的研究 20
3.3.1 禁带宽度的测定 20
3.3.2 光催化剂性能的研究 21
3.3.3 不同pH值对催化剂效率的影响 21
3.4 本章小结 23
结 论 24
致 谢 25
参考
文献
26
1 绪论
1.1 光催化现象概述
当今社会各种环境问题日益突出,为了文持生态平衡实现可持续发展,控制水污染和大气污染已经成为亟待解决的重大问题。研究发现一些半导体在光照条件下具有光催化性能,可以降解有机污染物,并且具有成本低、效率高且不产生二次污染等优点,具有广阔的应用前景。
光催化研究的早期,视野主要集中于光解水制氢。最初研究者们以均相催化
系统
光解水,但O2比H2更难生成,从而很难同时获得氢气和氧气,生成产物也往往会出现自发复合现象,再加上催化剂材料的禁带宽较大,低活性和低量子效率等问题,光解水制氢并未取得明显突破性的研究。有研究表明,一些金属或金属氧化物负载的钛酸盐,在紫外光的照射下能够发生光解水的反应。同时,由于光催化材料所表现的强氧化能力,可将光催化的研究发展到污染治理层面。光催化技术可以分为均相光催化技术和多相光催化技术,目前,多相光催化技术是主要的研究方向[1]。
传统的半导体催化剂是二氧化钛,但由于其禁带宽度较宽,在可见光下不能响应,使其应用受到了限制。铁酸铋Bi2Fe4O9的同样作为半导体光催化剂,其禁带宽度比较小,在可见光下也可以由很好的响应,在此对其光催化性能进行深入研究。
1.2 半导体光催化反应机理
半导体催化技术的理论基础是能带理论。在半导体的能级里,价带位于满带顶,空带位于导带底,处于价带与导带之间的叫禁带,禁带的带隙宽度用Eg表示,表示着价带顶和导带底的能量间隙[2]。
在稳态下,电子优先占据能量低的能级,当用光照射半导体时,电子能够吸收光子的能量受到激发而跃迁,这样就产生了光生空穴-电子对,光生载流子可以和吸附在表面的物质进行氧化还原反应,使其发生降解,产生光催化作用[2]。
大概过程如下:
1)“光生载流子”的产生。
当半导体受到比其禁带宽度能量要大的光子的照射时,半导体价带上的电子会吸收光子的能量受到激发,从价带跃迁至导带,这样就在价带留下了相应的空穴,形成光生电子-空穴对。其吸收波长的阈值可简化为:
λg (nm) = 1240/Eg (eV) (1.1)
由此式可计算得出,常用半导体的Eg 大多低于400nm,处于紫外光区。
2)降解反应的进行。
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