化学镀铜技术主要应用在印制线路板(PCB),电子元件的电磁屏蔽罩,塑料电镀,电子封装,玻璃工业,雷达反射器[15,16]。1947年,Narcus最先报导关于化学镀铜的方法,1957年,由Cahill研究出近似化学镀铜法的方法,该方法是以甲醛为还原剂,以酒石酸钾钠为络合剂。早期化学镀铜液的稳定性很差,而且由于甲醛对于环境危害较大,美国法规规定严格控制甲醛的使用,使化学镀铜方法受到重创,这也促成了电镀方法在印制线路板中的快速发展。后来,Honma用乙醛酸代替甲醛,效果不错,但成本增加。之后Mizumoto又发现氨基乙酸也能代替甲醛,镀层的延展性有所增加,张力也有所提高。但是由于我们的资金有限,所以本实验,我依旧选用了甲醛作为还原剂。
化学镀铜技术目前被大量的应用,但是由于人们对于环保的理念越来越强烈,化学镀铜液中的有害物质甲醛对环境造成的污染也饱受争议,化学镀液的不稳定性,所以这项技术也有待提高和加强[17,18]。随着时代的进步与发展,化学镀铜这项技术肯定会在汽车工业,电子,航空工业等方面得到良好的应用和发挥。综合现在已有的技术和未来,提出以下几点展望:
(1)研究新的预处理工艺
(2)发现更多投资成本低,收益好的还原剂
(3)废物的回收利用,降低环境污染
(4)研究更好的催化剂加快反应速度,得到更多的金属。
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