Ni-γ-Fe2O3/SiO2复合镀层的制备工艺+文献综述(8)
二氧化硅/三氧化二铁配置：
0.01g 三氧化二铁/二氧化硅加蒸馏水20ml → 超声30min。
2.2.2 电镀方法：
Ni-γ-Fe2O3/SiO2复合镀层的制备工艺包括4个主要因素：加Fe2O3/SiO2 颗粒的量，电流密度，电磁铁的强度和复合镀层的厚度。后来我来确定为Ni-γ-Fe2O3/SiO2 复合镀层制备最适合的条件。
2.2.2.1确定光亮镀镍和复合镀镍电流密度(Jk)：
方法1：
加热镀镍液200ml到t=60℃ → 打磨试片 → 入镀槽前在5% 氯酸浸30s → 蒸馏水冲洗 → 入槽电镀 → 先镀光亮 Ni 20min → 在阴极放置电磁铁 → 取2ml三氧化二铁/二氧化硅分散液 → 滴入复合镀槽200ml中 → 60s后电镀（电镀的时间按照电流密度来计算） → 把试片洗干净 → 吹干
光亮镀镍条件：Jk=2A/dm2
计算采用不同电流密度时所用的复合镀电流和复合镀时间，Jk(复合镀）条件 = 2A/dm2, 2.5A/dm2, 3A/dm2, 4A/dm2, 4.5A/dm2
复合电镀时候使用不同的Jk和样品的面积,按照这些条件需要计算光亮镍和复合电镀电流和复合电镀时间。
使用公式：(δx ρ x S）= (K x I x t)
δ= 600nm, Ρ = 8.9 g/cm3, K = 1.095g/ah
样品1：S = 0.125m, I(光亮镍）= 250mA, I（复合镀镍）= 250mA, t = 67s
样品2：S = 0.125m, I(光亮镍）= 250mA, I（复合镀镍）= 312mA, t = 54s
样品3：S = 0.098m, I(光亮镍）= 196mA, I（复合镀镍）= 294mA, t = 44s
样品4：S = 0.095m, I(光亮镍）= 190mA, I（复合镀镍）= 392mA，t = 33s
样品5：S = 0.120m, I(光亮镍）= 240mA, I（复合镀镍）= 540mA, t = 30s
方法2：
方法二使用的光亮镀镍电流密度和复合镀镍电流密度一样，这是它和方法一唯一的差别
加热镀镍液200ml到t=60℃ → 打磨试片 → 入镀槽前在5% 氯酸浸30s → 蒸馏水冲洗 → 入槽电镀 → 先镀光亮 Ni 20min → 在阴极放置磁铁 → 取2ml三氧化二铁/二氧化硅分散液 → 滴入复合镀槽200ml中 → 60s后电镀（电镀的时间按照电流密度来计算）→ 把试片洗干净 → 吹干
复合电镀时候使用不同的Jk和样品的面积,按照这些条件需要计算光亮镍和复合电镀的电流(一样的）和复合电镀的时间。
使用公式：(δx ρ x S）= (K x I x t)
δ= 600nm, Ρ = 8.9 g/cm3, K = 1.095g/ah
光亮和复合镀镍条件：
Jk = 1A/dm2; Jk = 3A/dm2; Jk = 4A/dm2; Jk = 5A/dm2; Jk = 6A/dm2
Jk = 7A/dm2; Jk = 8A/dm2; Jk = 9A/dm2。
样品1：S = 0.054m, I = 108mA, t = 135s
样品2：S = 0.05m, I = 150mA, t = 45s
样品3：S = 0.05m, I = 200mA, t = 33s
样品4：S = 0.05m, I = 250mA, t = 27s
样品5：S = 0.05m, I = 300mA, t = 22s
样品6：S = 0.052m, I = 364mA, t = 19s
样品7：S = 0.052m, I = 416mA, t = 16s
样品8：S = 0.05m, I = 450mA, t = 15s
2.2.2.2确定电磁铁强度(I)：
加热镀镍液200ml到t=60℃ → 打磨试片 → 入镀槽前在5% 氯酸浸30s → 蒸馏水冲洗 → 入槽电镀 → 先镀光亮 Ni 20min → 在阴极放置电磁铁 → 取2ml三氧化二铁/二氧化硅分散液 → 滴入复合镀槽200ml中 → 60s后电镀（电镀的时间按照电流密度来计算） → 把试片洗干净 → 吹干
实验时用电磁铁，需要计算每个片子的面积，按照面积计算光亮镍和复合镀电镀的电流密度
光亮镍条件：Jk=3A/dm2
复合电镀条件：Jk=4A/dm2
电磁铁条件：I=0.2A; I=0.15A; I=0.1A; I=0.05A; I=0.01A; I=0.001A
按照这些条件需要计算每个样品的面积，光亮镍和复合镀的电流和复合电镀的时间
使用公式：(δx ρ x S）= (K x I x t)
δ= 600nm, Ρ = 8.9 g/cm3, K = 1.095g/ah