表2。1。1 制备氮化硼（BN）用到的原材料

序号 样品名称

H6BN（出产国：America）

纯Cu片（厚度为25um）

无水乙醇（C2H5OH，分析纯）

冰醋酸（CH3COOH，分析纯）

丙酮（C3H6O，分析纯）

去离子水（H2O）

混合气（70%氮气(N2)+30%氢气(H2)）纯度为99。999%

本实验生长氮化硼的设备来自安徽贝意克设备有限公司所制造的开启真空式管式炉(型号BTF-1200C)，实验过程中还用到电子天平、烘箱、恒温磁力搅拌器、数显型电热板、台式匀胶机、真空蒸发镀膜机等。实验设备如下图所示：

图2。1。1 制备氮化硼的实验设备和表征仪器来;自]优Y尔E论L文W网www.chuibin.com +QQ752018766-

(a)开启真空式管式炉(型号BTF-1200C);(b)光学显微镜(OLYMPUS,BX51)；

       (c)扫描电子显微镜（SEM)；(d)紫外-可见分光光度计（型号 UV-3600）

2。1。2 氧化锌制备的设备

     本次制备ZnO薄膜采用用原子层沉积系统（Atomic Layer Deposition,ALD）沉积。ALD技术是先将气相前驱体脉冲交替地通入反应器，然后在沉积基体上通过化学吸附且反应形成沉积膜的一种技术。相对于传统沉积工艺而言，原子层沉积（ALD）在薄膜层的均匀性、阶梯覆盖率和厚度控制等方面都拥有较显著的优势。目前来讲，可沉积的材料有:金属、氧化物、碳化物、氟化物、氮化物、硫化物、纳米薄层等。