图3.4 是图3.3中572与668 cm-1峰面积之比随预处理温度的变化
Fig. 3.4 The variation of area ratio of 572 and 668 cm-1 in Fig.3.3with the pretreatment temperature
从图3.3的插图中可以看出,随着预处理温度的升高,四氧化三钴的Co(III)-O和Co(II)-O的特征振动峰均发生红移,并且峰I和II的面积比(见图3.4)在室温到400℃范围内随预处理温度的升高而显著降低,这说明钴离子与氧离子的键能随着预处理温度的升高儿逐渐削弱,与Co(III)配位氧会逐渐脱除而形成氧空穴,与此同时,Co(III)被还原为Co(II)。此外,当催化剂在300℃下预处理后,在以1077cm-1为中心,大约800-1250cm-1范围内出现一个宽的非对称特征吸收峰,这边对应于多峰的叠加,并且强度随预处理温度升高而逐渐增强。Jansson等人将这一范围的吸收峰归属于配位不饱和的金属离子与氧原子的伸缩振动峰[41]。一般来说,氧在固体氧化物表面的吸附经过以下过程[42]:
图3.5催化剂的O2-TPD
Fig.3.5 O2-TPD profiles of catalysts, whose pretreatment temperatures were room temperature (1), 200℃(2) and 400℃(3)
O2-TPD结果表明(见图3.5),出现四类脱附峰:40-60℃(),120-220℃(),250-400℃(),400℃以上(),分别对应于吸附于氧空穴上的分子氧,弱吸附在Co(II)或Co(III)上氧离子,强吸附Co(III)上氧离子,以及体相氧物种的脱附[43],很明显,随着处理温度的提高, 脱附峰逐渐降低,脱附峰逐渐增强,当催化剂于400℃预处理后,同时还出现了和脱附峰。
图3.6催化剂的CO-TPD
Fig. 3.6CO-TPD profiles of catalysts, which were pretreated in N2 at room temperature (1), 200℃(2) and 400℃(3) and solid and dash dot line corresponding to desorptions of CO2 and CO, respectively.